解锁AR显示新视界：激光直写光刻机定义未来沉浸式体验的核心引擎

在元宇宙浪潮席卷全球的今天，AR/VR技术正从概念加速迈向量产，而显示技术的突破始终是决定用户体验的核心战场。传统光刻工艺的“掩膜依赖”与“高成本壁垒”，正被激光直写光刻技术彻底颠覆——以苏大维格为代表的国产设备厂商，已为AR/VR显示产业链按下“快进键”。
为什么选择激光直写光刻机？
一、无掩膜自由设计，释放创意无限
无需物理掩膜版，通过空间光调制器（DMD/DLP）直接生成数字图案，支持实时调整光路与图形参数。无论是复杂的光波导结构、纳米级微透镜阵列，还是定制化衍射光学元件（DOE），均可一键生成，大幅缩短研发周期。
二、纳米级精度，定义显示新高度
采用超分辨率激光直写技术（如浙江大学突破的100nm线宽工艺），结合AI算法优化曝光参数，实现光栅、波导等核心器件的超高精度图形化。例如，苏大维格的激光直写设备已支持4μm线宽的IC载板光刻，并在AR/VR光波导镜片量产中验证了90nm技术节点的可行性。
三、柔性电子赋能，突破形态限制
针对AR/VR设备轻薄化趋势，激光直写技术完美适配柔性基板（如PI膜、CPI膜），实现曲面、折叠显示模组的精密加工。其“非接触式”工艺可避免传统蚀刻对柔性材料的损伤，良率提升超30%。
四、降本增效，加速商业化落地
省去掩膜版制作费用（占传统光刻成本40%以上），单设备日产能达3000mm²@5μm，支持小批量定制与快速迭代。某头部AR厂商采用苏大维格设备后，光波导模组量产成本降低50%，交付周期缩短60%。
【应用场景】
光波导显示：高精度纳米压印光栅，实现120°超广视场角（FOV）与低畸变成像。
微显示驱动：定制化TFT背板与驱动电路，适配Micro-LED、硅基OLED等前沿显示方案。
衍射光学元件（DOE）：动态可调的波前调制，为AR眼镜打造全天候清晰视效。
【未来已来，即刻行动】
从实验室原型到量产产线，激光直写光刻机正成为AR/VR企业的“技术护城河”。目前国产厂商已实现设备出口欧美，打破ASML-DUV体系垄断，以自主可控的技术助力中国抢占下一代显示技术制高点。